关于我们

Raith是一家全球领先的纳米加工、电子束光刻、聚焦离子束加工、纳米工程和逆向工程应用领域的精密技术解决方案提供商。总部位于德国多特蒙德,通过在荷兰,美国和亚洲(香港和北京)的子公司以及代理商和服务网络,与全球最重要的客户紧密合作。客户包括涉及纳米技术研究和材料科学各个领域的大学和其他研究机构,以及将纳米技术用于特定产品应用或生产化合物半导体的工业和中型企业。

展示产品

Raith齐全的产品系列,保证了所有用户都可以在其中找到适合的解决方案。不论您是在寻找一种工业或科研应用的纳米光刻设备、希望选择一种聚焦离子束加工设备、或者希望在现有的SEM/FIB-SEM系统中升级纳米加工功能,您都可以在Raith的产品系列中找到完美的解决方案。而且我们还可以提供具备纳米多功能加工附件和SEM成像功能的系统,用于大面积成像。Raith的纳米加工、成像和光刻系统能使您在应用中得到满意的结果。与我们携手,在纳米加工中保持一种长期的合作关系。

EBPG 高性能电子束曝光系统

高性能电子束曝光机
自动化高速度的高精度电子束曝光技术

EBPG5200是一款高性能的纳米光刻系统,拥有完整200mm尺寸的光刻能力,这款电子束光刻系统代表了不断进化的高度成功和广为市场接受的EBPG系列产品。它提供了不同用途的最新解决方案,包括纳米尺度的电子束直写和大学研究所,以及商业化的生产力中心研发用的掩膜版制作。

同时,系列产品还包括新的EBPG5150电子束直写系统,使用了相同的平台设计,是一款155mm*155mm尺寸平台的系统。

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VOYAGER 高性能电子束曝光系统

新一代电子束曝光系统
高速且价格合理的电子束光刻机实现精确的曝光效果

对于工业界和学术界所有关注速度和高分辨的电子束曝光应用,我们推荐您选择VOYAGERTM这款专业电子束曝光系统。

Raith非常重视这款具有吸引力的在使用寿命期间具有高性价比、新开发的、创新的eWRITE体系结构。

系统的硬件和软件被一致设计为自动曝光操作,先进的高性能图形发生器和电子光学系统优化设计并协同一致。

系统可实现8英寸样品的高速曝光。系统的稳定性是非常关键的指标,可保证大面积均匀曝光。该系统外部采用环境屏蔽罩,即使在稍差的实验室环境下,仍然能确保系统具有非常好的热稳定性,提高系统对外界环境的容忍度。

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VELION FIB and SEM for Nanofabrication

FIB-SEM for FIB-centric nanofabrication
FIB centric lithography architcture and laser interferometer stage supported by a tailored SEM column

VELION is a novel FIB-SEM instrument in which FIB nanofabrication has matured into the standard technique for fabricating three dimensional and high resolution nanostructures, such as plasmonic devices, nano-fluidics, localized implantation and functionalization.

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地址
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Konrad-Adenauer-Allee 8
44263 Dortmund
Germany

电话: +49 231 95004-0
网址: www.raith.com
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东城区北三环东路36号环球贸易中心A座709室
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